工业建筑案例展示
出版文创科技园
建设单位:武汉出版文创科技有限公司
建设地点:武汉市江岸区新业路136号
建筑面积:88000㎡
建筑高度:92.7m
地上层数:3-22层
地下层数:1层
结构形式:框架剪力墙结构
武汉出版文创科技园位于武汉市江岸区兴业路与塔子湖西路交界处,本项目分为图书版权贸易区、图书编辑区、出版印务生产区、出版文博展示区、文创出版创业孵化、以及配套的物流仓储区、媒介金融服务区和文化休息区等。