出版文创科技园

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建设单位：武汉出版文创科技有限公司

建设地点：武汉市江岸区新业路136号

建筑面积：88000㎡

建筑高度：92.7m

地上层数：3-22层

地下层数：1层

结构形式：框架剪力墙结构

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武汉出版文创科技园位于武汉市江岸区兴业路与塔子湖西路交界处，本项目分为图书版权贸易区、图书编辑区、出版印务生产区、出版文博展示区、文创出版创业孵化、以及配套的物流仓储区、媒介金融服务区和文化休息区等。